納米(mi)激光(guang)粒度儀(yi)是進(jin)行納米(mi)級顆粒粒(li)徑分(fen)布(bu)測量(liang)的高精(jing)度儀(yi)器，在(zai)材(cai)料研(yan)發、生物醫藥、精(jing)細化(hua)工等(deng)領(ling)域應用廣泛(fan)。但(dan)對(dui)於剛(gang)接(jie)觸(chu)該設備(bei)的(de)操(cao)作(zuo)者來(lai)說，從開機(ji)到獲(huo)得可(ke)靠數(shu)據的過程涉(she)及(ji)多個關鍵環節，任(ren)何(he)壹步操(cao)作(zuo)不當(dang)都(dou)可(ke)能(neng)影響(xiang)結果(guo)的準確性(xing)。本(ben)文將(jiang)為新(xin)手系統(tong)梳(shu)理操(cao)作(zuo)流(liu)程(cheng)與(yu)關鍵步驟，幫(bang)助(zhu)快速(su)上手(shou)並(bing)規(gui)避(bi)常見誤區(qu)。
第(di)壹步：開機與環境(jing)檢查(zha)
操(cao)作(zuo)前需確(que)認實驗(yan)室環境(jing)條件(jian)符合(he)要(yao)求(qiu)：溫度壹般(ban)控制在(zai)20~25℃，相(xiang)對(dui)濕(shi)度低於60%，避(bi)免(mian)強(qiang)光(guang)直射(she)與強(qiang)電(dian)磁幹(gan)擾。檢查(zha)儀(yi)器電(dian)源(yuan)線、數(shu)據線連(lian)接牢(lao)固(gu)，激(ji)光(guang)安全(quan)標(biao)識(shi)完(wan)好(hao)。開(kai)機(ji)順(shun)序通(tong)常為(wei)先(xian)啟(qi)動(dong)計算機(ji)與配(pei)套軟件，再開啟(qi)主機(ji)電源(yuan)，讓(rang)光(guang)學系統(tong)預熱10~15分(fen)鐘，確(que)保(bao)光(guang)源(yuan)穩(wen)定(ding)。
第二(er)步(bu)：儀(yi)器校準與光(guang)路檢(jian)查(zha)
預熱完(wan)成(cheng)後執(zhi)行光(guang)路校準，這(zhe)是保(bao)證測量(liang)精(jing)度的(de)前提(ti)。校準內(nei)容(rong)包括激(ji)光(guang)對(dui)準、檢測器(qi)靈(ling)敏度校正及(ji)背景噪聲測量(liang)。部分(fen)機型(xing)支(zhi)持(chi)自動(dong)校準程序，但初次(ci)使用(yong)或長(chang)時(shi)間停用後應(ying)手動(dong)復核(he)，確保(bao)基(ji)線平穩(wen)、無漂(piao)移。
第(di)三步(bu)：樣(yang)品(pin)準備(bei)與(yu)分散
納米(mi)顆粒極易團聚，因此樣(yang)品(pin)制備(bei)尤(you)為關鍵。常用分(fen)散介(jie)質有(you)水(shui)、酒精(jing)或專(zhuan)用分散液(ye)，需根據顆粒材(cai)質(zhi)與(yu)折(zhe)射(she)率選(xuan)擇。操(cao)作(zuo)時(shi)取適量(liang)樣(yang)品(pin)，加入分(fen)散介(jie)質並(bing)超(chao)聲(sheng)處(chu)理(壹般(ban)1~5分(fen)鐘)，控制功率(lv)與(yu)時(shi)間以(yi)防過(guo)熱(re)引(yin)起(qi)粒徑(jing)變化(hua)。濃(nong)度應(ying)適中(zhong)——信(xin)號強(qiang)度(du)應(ying)在(zai)軟件推(tui)薦範圍內(nei)，過高會產(chan)生多重(zhong)散射(she)，過低則信(xin)噪比(bi)不足。
第四(si)步：參(can)數(shu)設置(zhi)與測量(liang)
打開(kai)測量(liang)軟件，新(xin)建(jian)測試(shi)任務，輸(shu)入樣(yang)品(pin)信(xin)息與(yu)介(jie)質(zhi)折射率(lv)、吸收(shou)系數(shu)等光(guang)學參數(shu)。選(xuan)擇合(he)適的測量(liang)模式(shi)(如(ru)靜態或動(dong)態光(guang)散射(she))，設定(ding)采樣(yang)次(ci)數(shu)與測量(liang)時(shi)長，壹般(ban)建(jian)議(yi)多次(ci)測量(liang)取平均(jun)以提(ti)高重(zhong)復性(xing)。進樣(yang)時(shi)註(zhu)意避(bi)免(mian)氣(qi)泡，可(ke)使(shi)用註(zhu)射器或專(zhuan)用進樣(yang)器(qi)緩慢(man)註(zhu)入樣(yang)品(pin)池(chi)。
第五(wu)步(bu)：數(shu)據采集與分析
測量(liang)結束後，軟件會自動(dong)生成粒(li)徑(jing)分布(bu)曲(qu)線與統計(ji)結果(guo)(如D10、D50、D90)。新(xin)手應(ying)先(xian)觀(guan)察(cha)分(fen)布(bu)曲(qu)線的合(he)理性(xing)，若出(chu)現雙(shuang)峰或不平滑情況，應(ying)檢查(zha)樣(yang)品(pin)是否(fou)分(fen)散完(wan)或存在(zai)汙(wu)染。必(bi)要(yao)時(shi)可(ke)調(tiao)整分(fen)散條件(jian)重(zhong)新(xin)測量(liang)。
第六(liu)步：關機與維護(hu)
測量(liang)完畢(bi)，先(xian)排(pai)空(kong)樣(yang)品(pin)池(chi)並(bing)用適當(dang)溶(rong)劑沖洗(xi)幹(gan)凈(jing)，防(fang)止殘(can)留顆粒固(gu)化。關閉主機(ji)電源(yuan)後再(zai)關閉計算機(ji)。定(ding)期(qi)進(jin)行儀(yi)器維(wei)護(hu)，包(bao)括清潔(jie)光(guang)學窗口、檢查(zha)密封圈(quan)、更(geng)新(xin)校準參數(shu)。
註(zhu)意事(shi)項與(yu)小技巧
不同批(pi)次(ci)樣(yang)品(pin)盡量(liang)保(bao)持壹致(zhi)的分散條件(jian)，便於(yu)橫向(xiang)比較(jiao)。
避(bi)免(mian)在(zai)樣(yang)品(pin)中(zhong)含(han)有(you)大顆粒或雜(za)質(zhi)，以免(mian)損(sun)傷(shang)光(guang)學系統(tong)。
初(chu)次(ci)操(cao)作(zuo)建(jian)議(yi)在(zai)廠(chang)家(jia)或熟(shu)練(lian)人員(yuan)指(zhi)導下進行，熟悉(xi)軟件界面與報(bao)警含(han)義(yi)。
掌(zhang)握以上流(liu)程(cheng)與(yu)關鍵步驟，新(xin)手也(ye)能(neng)快速開(kai)展可(ke)靠的(de)納米(mi)級粒(li)徑(jing)測試(shi)，並(bing)為後續的(de)工(gong)藝(yi)優化與(yu)質量(liang)控制奠(dian)定(ding)堅實基(ji)礎。
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